Zum zweiten Mal wurde am vergangenen Wochenende (16./17.03.) das Clara-und-Eduard-Rosenthal-Stipendium für Bildende Kunst vergeben. Eine Jury aus fünf überregional anerkannten Kunstexperten wählte am Freitag und Samstag aus insgesamt 166 Bewerbern die kommenden vier Stipendiaten aus.
Die Wahl der Juroren fiel auf die taiwanesische Photographin Yun-Yi Liu, die aus Baden-Württemberg stammende Performancekünstlerin Angelika Waniek, den Leipziger Druckgrafiker Patrick Fauck und den aus Erlangen stammenden Klangkünstler Rolf Giegold.
In Gedenken an Clara und Eduard Rosenthal vergibt JenaKultur seit 2010 Stipendien an Künstler und Künstlerinnen aus dem Bereich Bildende Kunst. Mit dem Stipendium soll Künstlern und Künstlerinnen die Möglichkeit gegeben werden, sich innerhalb einer jeweils sechsmonatigen Residenz in der Villa Rosenthal konzentriert ihrer Arbeit zu widmen. Am Ende der Stipendiatenzeit werden die Ergebnisse dieser Arbeit der Öffentlichkeit präsentiert. Durch das Stipendium soll außerdem der aktive Austausch mit der regionalen Kunstszene gefördert werden. Der/die erste Künstler/in aus dem zweiten Auswahlverfahren wird Anfang Juli sein/ihr Stipendium antreten.
Die Jury setzte sich wie folgt zusammen: Solveig Finck, Diplomkünstlerin und Entrepreneurin aus Weimar und Berlin; Prof. Hubert Kittel, Professor für Produktdesign an der Burg Giebichenstein in Halle; Frank Motz, Leiter der ACC Galerie, Weimar; Dr. Bettina Preiß, Verlegerin und Herausgeberin, VDG und Portal Kunstgeschichte in Kromsdorf sowie Dr. Angelika Steinmetz-Oppelland, Kunsthistorikerin und Kuratorin SCHOTT Villa, Jena.
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